§ 1 AEV Halbleiterbauelemente

Begrenzung von Abwasseremissionen aus der Herstellung von Halbleitern, Gleichrichtern und Fotozellen

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Aktuelle Fassung

In Kraft vom 18.07.2001 bis 31.12.9999

(1)Absatz eins,Bei der wasserrechtlichen Bewilligung einer Einleitung von Abwasser aus Betrieben oder Anlagen gemäß Abs. 2 in ein Fließgewässer oder in eine öffentliche Kanalisation sind die in Anlage A festgelegten Emissionsbegrenzungen vorzuschreiben.Bei der wasserrechtlichen Bewilligung einer Einleitung von Abwasser aus Betrieben oder Anlagen gemäß Absatz 2, in ein Fließgewässer oder in eine öffentliche Kanalisation sind die in Anlage A festgelegten Emissionsbegrenzungen vorzuschreiben.
(2)Absatz 2,Abs. 1 gilt für Abwasser aus Betrieben oder Anlagen mit folgenden Tätigkeiten:Absatz eins, gilt für Abwasser aus Betrieben oder Anlagen mit folgenden Tätigkeiten:
1. 1.Ziffer einsHerstellen von Halbleiterbauelementen (Gleichrichter, Transistoren, Dioden, Thyristoren, Triacs, integrierte Schaltungen und Ähnliche) einschließlich der zugehörigen Vor-, Zwischen- und Nachbehandlungen;
2. 2.Ziffer 2Herstellen von Solar- und Fotozellen einschließlich der zugehörigen Vor-, Zwischen- und Nachbehandlungen;
3. 3.Ziffer 3Herstellen von keramischen Bauteilen für elektronische Anwendungen;
4. 4.Ziffer 4Reinigen von Abluft und wässrigen Kondensaten aus Tätigkeiten der Z 1 bis 3.Reinigen von Abluft und wässrigen Kondensaten aus Tätigkeiten der Ziffer eins bis 3,
(3)Absatz 3,Abs. 1 gilt nicht für die Einleitung vonAbsatz eins, gilt nicht für die Einleitung von
1. 1.Ziffer einsAbwasser aus Kühlsystemen und Dampferzeugern (§ 4 Abs. 2 Z 4.1 AAEV);Abwasser aus Kühlsystemen und Dampferzeugern (Paragraph 4, Absatz 2, Ziffer 4 Punkt eins, AAEV);
2. 2.Ziffer 2Abwasser aus Laboratorien (§ 4 Abs. 2 Z 4.3 AAEV);Abwasser aus Laboratorien (Paragraph 4, Absatz 2, Ziffer 4 Punkt 3, AAEV);
3. 3.Ziffer 3Abwasser aus der Wasseraufbereitung (§ 4 Abs. 2 Z 4.4 AAEV);Abwasser aus der Wasseraufbereitung (Paragraph 4, Absatz 2, Ziffer 4 Punkt 4, AAEV);
4. 4.Ziffer 4Abwasser aus der Herstellung von Leiterplatten (§ 4 Abs. 2 Z 6.4 AAEV);Abwasser aus der Herstellung von Leiterplatten (Paragraph 4, Absatz 2, Ziffer 6 Punkt 4, AAEV);
5. 5.Ziffer 5Abwasser aus der Herstellung von Grundstoffen für Halbleiterbauelemente (raw wafers);
6. 6.Ziffer 6Häuslichem Abwasser aus Betrieben gemäß Abs. 2.Häuslichem Abwasser aus Betrieben gemäß Absatz 2,
(4)Absatz 4,Soweit diese Verordnung keine von der AAEV abweichende Regelung enthält, gilt die AAEV ausgenommen § 4 Abs. 7 AAEV für Abwasser aus der Reinigung von Abluft, die in Tätigkeiten des Abs. 2 anfällt. Fällt im Zuge eines Herstellungsvorganges gemäß Abs. 2 Abwasser aus einem galvanischen Prozess an, so ist dieses Abwasser als Teilstrom im Sinne des § 4 Abs. 7 Z 1 AAEV derart zu behandeln, dass für einen maßgeblichen gefährlichen Abwasserinhaltsstoff der Emissionswert entsprechend der Abwasseremissionsverordnung für den Herkunftsbereich Behandlung und Beschichtung metallischer Oberflächen (§ 4 Abs. 2 Z 6.4 AAEV) vor der Vereinigung mit sonstigem (Ab)Wasser eingehalten wird.Soweit diese Verordnung keine von der AAEV abweichende Regelung enthält, gilt die AAEV ausgenommen Paragraph 4, Absatz 7, AAEV für Abwasser aus der Reinigung von Abluft, die in Tätigkeiten des Absatz 2, anfällt. Fällt im Zuge eines Herstellungsvorganges gemäß Absatz 2, Abwasser aus einem galvanischen Prozess an, so ist dieses Abwasser als Teilstrom im Sinne des Paragraph 4, Absatz 7, Ziffer eins, AAEV derart zu behandeln, dass für einen maßgeblichen gefährlichen Abwasserinhaltsstoff der Emissionswert entsprechend der Abwasseremissionsverordnung für den Herkunftsbereich Behandlung und Beschichtung metallischer Oberflächen (Paragraph 4, Absatz 2, Ziffer 6 Punkt 4, AAEV) vor der Vereinigung mit sonstigem (Ab)Wasser eingehalten wird.
(5)Absatz 5,Sofern es bei einer rechtmäßig bestehenden Einleitung gemäß Abs. 1 für die Einhaltung der Emissionsbegrenzungen der Anlage A erforderlich ist, oder sofern bei einer beantragten Einleitung gemäß Abs. 1 die Einhaltung der Emissionsbegrenzungen der Anlage A nicht durch andere Maßnahmen gewährleistet ist, können unter anderem folgende die wasserwirtschaftlichen Verhältnisse von Betrieben oder Anlagen gemäß Abs. 2 betreffende Maßnahmen entweder bei alleinigem oder bei kombiniertem Einsatz in Betracht gezogen werden (Stand der Vermeidungs-, Rückhalte- und Reinigungstechnik):Sofern es bei einer rechtmäßig bestehenden Einleitung gemäß Absatz eins, für die Einhaltung der Emissionsbegrenzungen der Anlage A erforderlich ist, oder sofern bei einer beantragten Einleitung gemäß Absatz eins, die Einhaltung der Emissionsbegrenzungen der Anlage A nicht durch andere Maßnahmen gewährleistet ist, können unter anderem folgende die wasserwirtschaftlichen Verhältnisse von Betrieben oder Anlagen gemäß Absatz 2, betreffende Maßnahmen entweder bei alleinigem oder bei kombiniertem Einsatz in Betracht gezogen werden (Stand der Vermeidungs-, Rückhalte- und Reinigungstechnik):
1. 1.Ziffer einsVerminderung des Wasserverbrauches und Abwasseranfalles durch
  - –StrichaufzählungEinsatz wassersparender Spültechniken (zB Mehrfachkaskaden, Tauchspritzspülen, Leitfähigkeitsweichen usw.),
  - –StrichaufzählungAuftrennung der Spülwässer in für die Mehrfachverwendung geeignete und ungeeignete Teilströme mit Mehrfachverwendung der geeigneten Spülwässer nach Zwischenreinigung (zB durch Ionentausch, Membrantechnik und ähnlichem),
  - –Strichaufzählungweitestgehende Kreislaufführung von Wasser aus der Abluftwäsche,
  - –StrichaufzählungWeiterverwendung schwach belasteter Teilströme in anderen Bereichen (zB als Kühlwasser, Reinigungswasser, Waschwasser in der Abluftwäsche, in der Galvanik oder der Leiterplattenherstellung),
  - –StrichaufzählungEinsatz von Speicherbecken zur Sammlung von Spritzverlusten, Reinigungswässern oder Leckagen,
  - -StrichaufzählungWeiterverwenden verbrauchter Prozesslösungen (zB Säuren, organische Lösemittel);
2. 2.Ziffer 2vom Prozessabwasser gesonderte Erfassung und Behandlung von Retentat aus der Reinstwasseraufbereitung und Behandlung entsprechend der AEV Wasseraufbereitung (zB mittels Membranverfahren);
3. 3.Ziffer 3Verzicht auf den Einsatz von gasförmigen Halogenen, soweit dies auf Grund der angewandten Produktionsverfahren möglich ist;weitestgehender Verzicht auf den Einsatz halogenierter organischer Lösungsmittel, sofern die Gefahr besteht, dass diese mit Wasser in Kontakt kommen können;
4. 4.Ziffer 4Verzicht auf den Einsatz von Arbeits- oder Hilfsstoffen mit wassergefährdenden Eigenschaften, soweit dies auf Grund der eingesetzten Produktionsverfahren möglich ist; Beachtung der ökotoxikologischen Angaben in den Sicherheitsdatenblättern der eingesetzten Stoffe; weitestgehender Verzicht auf den Einsatz von Polyaminocarbonsäuren und deren Salzen;
5. 5.Ziffer 5bevorzugter Einsatz physikalischer oder physikalisch-chemischer Verfahren zur Zerstörung von Komplexbildnern; bei Einsatz chemischer Verfahren bevorzugte Anwendung von Ozon, Wasserstoffperoxid oder anderer Persauerstoffverbindungen;weitestgehender Verzicht auf den Einsatz von Chlor oder chlorabspaltenden Chemikalien;
6. 6.Ziffer 6gesonderte Erfassung und Reinigung arsen-, cadmium-, selen- und komplexbildnerhaltiger Abwasserteilströme;
7. 7.Ziffer 7Einsatz von Pufferbecken zur Abminderung von Abwassermengen- und Schmutzfrachtspitzen;
8. 8.Ziffer 8Einsatz physikalischer, physikalisch-chemischer oder chemischer Abwasserreinigungsverfahren für einzelne Teilströme (zB Oxidation/Reduktion, Fällung/Flockung, Extraktion, Membrantechnik, Elektrolyse) und für das Gesamtabwasser (zB Neutralisation, Sedimentation, Filtration, Fällung/Flockung, Ionentausch);
9. 9.Ziffer 9vom Abwasser gesonderte Erfassung und Verwertung der Rückstände aus der Produktion und Verarbeitung sowie der bei der Abwasserreinigung anfallenden Rückstände oder deren Entsorgung als Abfall (AWG, BGBl. Nr. 325/1990).vom Abwasser gesonderte Erfassung und Verwertung der Rückstände aus der Produktion und Verarbeitung sowie der bei der Abwasserreinigung anfallenden Rückstände oder deren Entsorgung als Abfall (AWG, Bundesgesetzblatt Nr. 325 aus 1990,).

Aktuelle Fassung

In Kraft vom 18.07.2001 bis 31.12.9999

(1)Absatz eins,Bei der wasserrechtlichen Bewilligung einer Einleitung von Abwasser aus Betrieben oder Anlagen gemäß Abs. 2 in ein Fließgewässer oder in eine öffentliche Kanalisation sind die in Anlage A festgelegten Emissionsbegrenzungen vorzuschreiben.Bei der wasserrechtlichen Bewilligung einer Einleitung von Abwasser aus Betrieben oder Anlagen gemäß Absatz 2, in ein Fließgewässer oder in eine öffentliche Kanalisation sind die in Anlage A festgelegten Emissionsbegrenzungen vorzuschreiben.
(2)Absatz 2,Abs. 1 gilt für Abwasser aus Betrieben oder Anlagen mit folgenden Tätigkeiten:Absatz eins, gilt für Abwasser aus Betrieben oder Anlagen mit folgenden Tätigkeiten:
1. 1.Ziffer einsHerstellen von Halbleiterbauelementen (Gleichrichter, Transistoren, Dioden, Thyristoren, Triacs, integrierte Schaltungen und Ähnliche) einschließlich der zugehörigen Vor-, Zwischen- und Nachbehandlungen;
2. 2.Ziffer 2Herstellen von Solar- und Fotozellen einschließlich der zugehörigen Vor-, Zwischen- und Nachbehandlungen;
3. 3.Ziffer 3Herstellen von keramischen Bauteilen für elektronische Anwendungen;
4. 4.Ziffer 4Reinigen von Abluft und wässrigen Kondensaten aus Tätigkeiten der Z 1 bis 3.Reinigen von Abluft und wässrigen Kondensaten aus Tätigkeiten der Ziffer eins bis 3,
(3)Absatz 3,Abs. 1 gilt nicht für die Einleitung vonAbsatz eins, gilt nicht für die Einleitung von
1. 1.Ziffer einsAbwasser aus Kühlsystemen und Dampferzeugern (§ 4 Abs. 2 Z 4.1 AAEV);Abwasser aus Kühlsystemen und Dampferzeugern (Paragraph 4, Absatz 2, Ziffer 4 Punkt eins, AAEV);
2. 2.Ziffer 2Abwasser aus Laboratorien (§ 4 Abs. 2 Z 4.3 AAEV);Abwasser aus Laboratorien (Paragraph 4, Absatz 2, Ziffer 4 Punkt 3, AAEV);
3. 3.Ziffer 3Abwasser aus der Wasseraufbereitung (§ 4 Abs. 2 Z 4.4 AAEV);Abwasser aus der Wasseraufbereitung (Paragraph 4, Absatz 2, Ziffer 4 Punkt 4, AAEV);
4. 4.Ziffer 4Abwasser aus der Herstellung von Leiterplatten (§ 4 Abs. 2 Z 6.4 AAEV);Abwasser aus der Herstellung von Leiterplatten (Paragraph 4, Absatz 2, Ziffer 6 Punkt 4, AAEV);
5. 5.Ziffer 5Abwasser aus der Herstellung von Grundstoffen für Halbleiterbauelemente (raw wafers);
6. 6.Ziffer 6Häuslichem Abwasser aus Betrieben gemäß Abs. 2.Häuslichem Abwasser aus Betrieben gemäß Absatz 2,
(4)Absatz 4,Soweit diese Verordnung keine von der AAEV abweichende Regelung enthält, gilt die AAEV ausgenommen § 4 Abs. 7 AAEV für Abwasser aus der Reinigung von Abluft, die in Tätigkeiten des Abs. 2 anfällt. Fällt im Zuge eines Herstellungsvorganges gemäß Abs. 2 Abwasser aus einem galvanischen Prozess an, so ist dieses Abwasser als Teilstrom im Sinne des § 4 Abs. 7 Z 1 AAEV derart zu behandeln, dass für einen maßgeblichen gefährlichen Abwasserinhaltsstoff der Emissionswert entsprechend der Abwasseremissionsverordnung für den Herkunftsbereich Behandlung und Beschichtung metallischer Oberflächen (§ 4 Abs. 2 Z 6.4 AAEV) vor der Vereinigung mit sonstigem (Ab)Wasser eingehalten wird.Soweit diese Verordnung keine von der AAEV abweichende Regelung enthält, gilt die AAEV ausgenommen Paragraph 4, Absatz 7, AAEV für Abwasser aus der Reinigung von Abluft, die in Tätigkeiten des Absatz 2, anfällt. Fällt im Zuge eines Herstellungsvorganges gemäß Absatz 2, Abwasser aus einem galvanischen Prozess an, so ist dieses Abwasser als Teilstrom im Sinne des Paragraph 4, Absatz 7, Ziffer eins, AAEV derart zu behandeln, dass für einen maßgeblichen gefährlichen Abwasserinhaltsstoff der Emissionswert entsprechend der Abwasseremissionsverordnung für den Herkunftsbereich Behandlung und Beschichtung metallischer Oberflächen (Paragraph 4, Absatz 2, Ziffer 6 Punkt 4, AAEV) vor der Vereinigung mit sonstigem (Ab)Wasser eingehalten wird.
(5)Absatz 5,Sofern es bei einer rechtmäßig bestehenden Einleitung gemäß Abs. 1 für die Einhaltung der Emissionsbegrenzungen der Anlage A erforderlich ist, oder sofern bei einer beantragten Einleitung gemäß Abs. 1 die Einhaltung der Emissionsbegrenzungen der Anlage A nicht durch andere Maßnahmen gewährleistet ist, können unter anderem folgende die wasserwirtschaftlichen Verhältnisse von Betrieben oder Anlagen gemäß Abs. 2 betreffende Maßnahmen entweder bei alleinigem oder bei kombiniertem Einsatz in Betracht gezogen werden (Stand der Vermeidungs-, Rückhalte- und Reinigungstechnik):Sofern es bei einer rechtmäßig bestehenden Einleitung gemäß Absatz eins, für die Einhaltung der Emissionsbegrenzungen der Anlage A erforderlich ist, oder sofern bei einer beantragten Einleitung gemäß Absatz eins, die Einhaltung der Emissionsbegrenzungen der Anlage A nicht durch andere Maßnahmen gewährleistet ist, können unter anderem folgende die wasserwirtschaftlichen Verhältnisse von Betrieben oder Anlagen gemäß Absatz 2, betreffende Maßnahmen entweder bei alleinigem oder bei kombiniertem Einsatz in Betracht gezogen werden (Stand der Vermeidungs-, Rückhalte- und Reinigungstechnik):
1. 1.Ziffer einsVerminderung des Wasserverbrauches und Abwasseranfalles durch
  - –StrichaufzählungEinsatz wassersparender Spültechniken (zB Mehrfachkaskaden, Tauchspritzspülen, Leitfähigkeitsweichen usw.),
  - –StrichaufzählungAuftrennung der Spülwässer in für die Mehrfachverwendung geeignete und ungeeignete Teilströme mit Mehrfachverwendung der geeigneten Spülwässer nach Zwischenreinigung (zB durch Ionentausch, Membrantechnik und ähnlichem),
  - –Strichaufzählungweitestgehende Kreislaufführung von Wasser aus der Abluftwäsche,
  - –StrichaufzählungWeiterverwendung schwach belasteter Teilströme in anderen Bereichen (zB als Kühlwasser, Reinigungswasser, Waschwasser in der Abluftwäsche, in der Galvanik oder der Leiterplattenherstellung),
  - –StrichaufzählungEinsatz von Speicherbecken zur Sammlung von Spritzverlusten, Reinigungswässern oder Leckagen,
  - -StrichaufzählungWeiterverwenden verbrauchter Prozesslösungen (zB Säuren, organische Lösemittel);
2. 2.Ziffer 2vom Prozessabwasser gesonderte Erfassung und Behandlung von Retentat aus der Reinstwasseraufbereitung und Behandlung entsprechend der AEV Wasseraufbereitung (zB mittels Membranverfahren);
3. 3.Ziffer 3Verzicht auf den Einsatz von gasförmigen Halogenen, soweit dies auf Grund der angewandten Produktionsverfahren möglich ist;weitestgehender Verzicht auf den Einsatz halogenierter organischer Lösungsmittel, sofern die Gefahr besteht, dass diese mit Wasser in Kontakt kommen können;
4. 4.Ziffer 4Verzicht auf den Einsatz von Arbeits- oder Hilfsstoffen mit wassergefährdenden Eigenschaften, soweit dies auf Grund der eingesetzten Produktionsverfahren möglich ist; Beachtung der ökotoxikologischen Angaben in den Sicherheitsdatenblättern der eingesetzten Stoffe; weitestgehender Verzicht auf den Einsatz von Polyaminocarbonsäuren und deren Salzen;
5. 5.Ziffer 5bevorzugter Einsatz physikalischer oder physikalisch-chemischer Verfahren zur Zerstörung von Komplexbildnern; bei Einsatz chemischer Verfahren bevorzugte Anwendung von Ozon, Wasserstoffperoxid oder anderer Persauerstoffverbindungen;weitestgehender Verzicht auf den Einsatz von Chlor oder chlorabspaltenden Chemikalien;
6. 6.Ziffer 6gesonderte Erfassung und Reinigung arsen-, cadmium-, selen- und komplexbildnerhaltiger Abwasserteilströme;
7. 7.Ziffer 7Einsatz von Pufferbecken zur Abminderung von Abwassermengen- und Schmutzfrachtspitzen;
8. 8.Ziffer 8Einsatz physikalischer, physikalisch-chemischer oder chemischer Abwasserreinigungsverfahren für einzelne Teilströme (zB Oxidation/Reduktion, Fällung/Flockung, Extraktion, Membrantechnik, Elektrolyse) und für das Gesamtabwasser (zB Neutralisation, Sedimentation, Filtration, Fällung/Flockung, Ionentausch);
9. 9.Ziffer 9vom Abwasser gesonderte Erfassung und Verwertung der Rückstände aus der Produktion und Verarbeitung sowie der bei der Abwasserreinigung anfallenden Rückstände oder deren Entsorgung als Abfall (AWG, BGBl. Nr. 325/1990).vom Abwasser gesonderte Erfassung und Verwertung der Rückstände aus der Produktion und Verarbeitung sowie der bei der Abwasserreinigung anfallenden Rückstände oder deren Entsorgung als Abfall (AWG, Bundesgesetzblatt Nr. 325 aus 1990,).

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