Gesamte Rechtsvorschrift AEV Halbleiterbauelemente

Begrenzung von Abwasseremissionen aus der Herstellung von Halbleitern, Gleichrichtern und Fotozellen

AEV Halbleiterbauelemente
beobachten
merken
Stand der Gesetzesgebung: 02.09.2026

§ 1 AEV Halbleiterbauelemente


  1. (1)Absatz eins,Bei der wasserrechtlichen Bewilligung einer Einleitung von Abwasser aus Betrieben oder Anlagen gemäß Abs. 2 in ein Fließgewässer oder in eine öffentliche Kanalisation sind die in Anlage A festgelegten Emissionsbegrenzungen vorzuschreiben.Bei der wasserrechtlichen Bewilligung einer Einleitung von Abwasser aus Betrieben oder Anlagen gemäß Absatz 2, in ein Fließgewässer oder in eine öffentliche Kanalisation sind die in Anlage A festgelegten Emissionsbegrenzungen vorzuschreiben.
  2. (2)Absatz 2,Abs. 1 gilt für Abwasser aus Betrieben oder Anlagen mit folgenden Tätigkeiten:Absatz eins, gilt für Abwasser aus Betrieben oder Anlagen mit folgenden Tätigkeiten:
    1. 1.Ziffer einsHerstellen von Halbleiterbauelementen (Gleichrichter, Transistoren, Dioden, Thyristoren, Triacs, integrierte Schaltungen und Ähnliche) einschließlich der zugehörigen Vor-, Zwischen- und Nachbehandlungen;
    2. 2.Ziffer 2Herstellen von Solar- und Fotozellen einschließlich der zugehörigen Vor-, Zwischen- und Nachbehandlungen;
    3. 3.Ziffer 3Herstellen von keramischen Bauteilen für elektronische Anwendungen;
    4. 4.Ziffer 4Reinigen von Abluft und wässrigen Kondensaten aus Tätigkeiten der Z 1 bis 3.Reinigen von Abluft und wässrigen Kondensaten aus Tätigkeiten der Ziffer eins bis 3,
  3. (3)Absatz 3,Abs. 1 gilt nicht für die Einleitung vonAbsatz eins, gilt nicht für die Einleitung von
    1. 1.Ziffer einsAbwasser aus Kühlsystemen und Dampferzeugern (§ 4 Abs. 2 Z 4.1 AAEV);Abwasser aus Kühlsystemen und Dampferzeugern (Paragraph 4, Absatz 2, Ziffer 4 Punkt eins, AAEV);
    2. 2.Ziffer 2Abwasser aus Laboratorien (§ 4 Abs. 2 Z 4.3 AAEV);Abwasser aus Laboratorien (Paragraph 4, Absatz 2, Ziffer 4 Punkt 3, AAEV);
    3. 3.Ziffer 3Abwasser aus der Wasseraufbereitung (§ 4 Abs. 2 Z 4.4 AAEV);Abwasser aus der Wasseraufbereitung (Paragraph 4, Absatz 2, Ziffer 4 Punkt 4, AAEV);
    4. 4.Ziffer 4Abwasser aus der Herstellung von Leiterplatten (§ 4 Abs. 2 Z 6.4 AAEV);Abwasser aus der Herstellung von Leiterplatten (Paragraph 4, Absatz 2, Ziffer 6 Punkt 4, AAEV);
    5. 5.Ziffer 5Abwasser aus der Herstellung von Grundstoffen für Halbleiterbauelemente (raw wafers);
    6. 6.Ziffer 6Häuslichem Abwasser aus Betrieben gemäß Abs. 2.Häuslichem Abwasser aus Betrieben gemäß Absatz 2,
  4. (4)Absatz 4,Soweit diese Verordnung keine von der AAEV abweichende Regelung enthält, gilt die AAEV ausgenommen § 4 Abs. 7 AAEV für Abwasser aus der Reinigung von Abluft, die in Tätigkeiten des Abs. 2 anfällt. Fällt im Zuge eines Herstellungsvorganges gemäß Abs. 2 Abwasser aus einem galvanischen Prozess an, so ist dieses Abwasser als Teilstrom im Sinne des § 4 Abs. 7 Z 1 AAEV derart zu behandeln, dass für einen maßgeblichen gefährlichen Abwasserinhaltsstoff der Emissionswert entsprechend der Abwasseremissionsverordnung für den Herkunftsbereich Behandlung und Beschichtung metallischer Oberflächen (§ 4 Abs. 2 Z 6.4 AAEV) vor der Vereinigung mit sonstigem (Ab)Wasser eingehalten wird.Soweit diese Verordnung keine von der AAEV abweichende Regelung enthält, gilt die AAEV ausgenommen Paragraph 4, Absatz 7, AAEV für Abwasser aus der Reinigung von Abluft, die in Tätigkeiten des Absatz 2, anfällt. Fällt im Zuge eines Herstellungsvorganges gemäß Absatz 2, Abwasser aus einem galvanischen Prozess an, so ist dieses Abwasser als Teilstrom im Sinne des Paragraph 4, Absatz 7, Ziffer eins, AAEV derart zu behandeln, dass für einen maßgeblichen gefährlichen Abwasserinhaltsstoff der Emissionswert entsprechend der Abwasseremissionsverordnung für den Herkunftsbereich Behandlung und Beschichtung metallischer Oberflächen (Paragraph 4, Absatz 2, Ziffer 6 Punkt 4, AAEV) vor der Vereinigung mit sonstigem (Ab)Wasser eingehalten wird.
  5. (5)Absatz 5,Sofern es bei einer rechtmäßig bestehenden Einleitung gemäß Abs. 1 für die Einhaltung der Emissionsbegrenzungen der Anlage A erforderlich ist, oder sofern bei einer beantragten Einleitung gemäß Abs. 1 die Einhaltung der Emissionsbegrenzungen der Anlage A nicht durch andere Maßnahmen gewährleistet ist, können unter anderem folgende die wasserwirtschaftlichen Verhältnisse von Betrieben oder Anlagen gemäß Abs. 2 betreffende Maßnahmen entweder bei alleinigem oder bei kombiniertem Einsatz in Betracht gezogen werden (Stand der Vermeidungs-, Rückhalte- und Reinigungstechnik):Sofern es bei einer rechtmäßig bestehenden Einleitung gemäß Absatz eins, für die Einhaltung der Emissionsbegrenzungen der Anlage A erforderlich ist, oder sofern bei einer beantragten Einleitung gemäß Absatz eins, die Einhaltung der Emissionsbegrenzungen der Anlage A nicht durch andere Maßnahmen gewährleistet ist, können unter anderem folgende die wasserwirtschaftlichen Verhältnisse von Betrieben oder Anlagen gemäß Absatz 2, betreffende Maßnahmen entweder bei alleinigem oder bei kombiniertem Einsatz in Betracht gezogen werden (Stand der Vermeidungs-, Rückhalte- und Reinigungstechnik):
    1. 1.Ziffer einsVerminderung des Wasserverbrauches und Abwasseranfalles durch
      • StrichaufzählungEinsatz wassersparender Spültechniken (zB Mehrfachkaskaden, Tauchspritzspülen, Leitfähigkeitsweichen usw.),
      • StrichaufzählungAuftrennung der Spülwässer in für die Mehrfachverwendung geeignete und ungeeignete Teilströme mit Mehrfachverwendung der geeigneten Spülwässer nach Zwischenreinigung (zB durch Ionentausch, Membrantechnik und ähnlichem),
      • Strichaufzählungweitestgehende Kreislaufführung von Wasser aus der Abluftwäsche,
      • StrichaufzählungWeiterverwendung schwach belasteter Teilströme in anderen Bereichen (zB als Kühlwasser, Reinigungswasser, Waschwasser in der Abluftwäsche, in der Galvanik oder der Leiterplattenherstellung),
      • StrichaufzählungEinsatz von Speicherbecken zur Sammlung von Spritzverlusten, Reinigungswässern oder Leckagen,
      • -StrichaufzählungWeiterverwenden verbrauchter Prozesslösungen (zB Säuren, organische Lösemittel);
    2. 2.Ziffer 2vom Prozessabwasser gesonderte Erfassung und Behandlung von Retentat aus der Reinstwasseraufbereitung und Behandlung entsprechend der AEV Wasseraufbereitung (zB mittels Membranverfahren);
    3. 3.Ziffer 3Verzicht auf den Einsatz von gasförmigen Halogenen, soweit dies auf Grund der angewandten Produktionsverfahren möglich ist;weitestgehender Verzicht auf den Einsatz halogenierter organischer Lösungsmittel, sofern die Gefahr besteht, dass diese mit Wasser in Kontakt kommen können;
    4. 4.Ziffer 4Verzicht auf den Einsatz von Arbeits- oder Hilfsstoffen mit wassergefährdenden Eigenschaften, soweit dies auf Grund der eingesetzten Produktionsverfahren möglich ist; Beachtung der ökotoxikologischen Angaben in den Sicherheitsdatenblättern der eingesetzten Stoffe; weitestgehender Verzicht auf den Einsatz von Polyaminocarbonsäuren und deren Salzen;
    5. 5.Ziffer 5bevorzugter Einsatz physikalischer oder physikalisch-chemischer Verfahren zur Zerstörung von Komplexbildnern; bei Einsatz chemischer Verfahren bevorzugte Anwendung von Ozon, Wasserstoffperoxid oder anderer Persauerstoffverbindungen;weitestgehender Verzicht auf den Einsatz von Chlor oder chlorabspaltenden Chemikalien;
    6. 6.Ziffer 6gesonderte Erfassung und Reinigung arsen-, cadmium-, selen- und komplexbildnerhaltiger Abwasserteilströme;
    7. 7.Ziffer 7Einsatz von Pufferbecken zur Abminderung von Abwassermengen- und Schmutzfrachtspitzen;
    8. 8.Ziffer 8Einsatz physikalischer, physikalisch-chemischer oder chemischer Abwasserreinigungsverfahren für einzelne Teilströme (zB Oxidation/Reduktion, Fällung/Flockung, Extraktion, Membrantechnik, Elektrolyse) und für das Gesamtabwasser (zB Neutralisation, Sedimentation, Filtration, Fällung/Flockung, Ionentausch);
    9. 9.Ziffer 9vom Abwasser gesonderte Erfassung und Verwertung der Rückstände aus der Produktion und Verarbeitung sowie der bei der Abwasserreinigung anfallenden Rückstände oder deren Entsorgung als Abfall (AWG, BGBl. Nr. 325/1990).vom Abwasser gesonderte Erfassung und Verwertung der Rückstände aus der Produktion und Verarbeitung sowie der bei der Abwasserreinigung anfallenden Rückstände oder deren Entsorgung als Abfall (AWG, Bundesgesetzblatt Nr. 325 aus 1990,).

§ 2 AEV Halbleiterbauelemente


Durch nachstehend genannte Parameter der Anlage A werden gefährliche Abwasserinhaltsstoffe gemäß § 33a WRG 1959 erfasst: Durch nachstehend genannte Parameter der Anlage A werden gefährliche Abwasserinhaltsstoffe gemäß Paragraph 33 a, WRG 1959 erfasst:

Toxizität (Nr. 2), Antimon (Nr. 5), Arsen (Nr. 6), Blei (Nr. 7), Cadmium (Nr. 9), Chrom-Gesamt (Nr. 10), Kupfer (Nr. 11), Molybdän (Nr. 12), Nickel (Nr. 13), Selen (Nr. 14), Zink (Nr. 15), Zinn (Nr. 16), Ammonium (Nr. 17), AOX (Nr. 24), Kohlenwasserstoff-Index (Nr. 25), POX (Nr. 26) und BTXE (Nr. 28).

§ 3 AEV Halbleiterbauelemente


Eine Abwassereinleitung gemäß § 1 Abs. 1 in ein Fließgewässer oder in eine öffentliche Kanalisation ist unter Bedachtnahme auf § 3 Abs. 10 AAEV an Hand der eingeleiteten Tagesfrachten der Abwasserinhaltsstoffe zu beurteilen. Eine Abwassereinleitung gemäß Paragraph eins, Absatz eins, in ein Fließgewässer oder in eine öffentliche Kanalisation ist unter Bedachtnahme auf Paragraph 3, Absatz 10, AAEV an Hand der eingeleiteten Tagesfrachten der Abwasserinhaltsstoffe zu beurteilen.

§ 4 AEV Halbleiterbauelemente


  1. (1)Absatz eins,Eine Emissionsbegrenzung für einen Abwasserparameter der Anlage A ist im Rahmen der Eigenüberwachung und im Rahmen der Fremdüberwachung einzuhalten.
  2. (2)Absatz 2,Für die Eigenüberwachung gilt:
    1. 1.Ziffer einsEine Emissionsbegrenzung für einen Abwasserparameter Nr. 2, 3 oder 5 bis 28 der Anlage A gilt als eingehalten, wenn bei fünf aufeinanderfolgenden Messungen vier Messwerte nicht größer sind als die Emissionsbegrenzung und lediglich ein Messwert die Emissionsbegrenzung um nicht mehr als 50% überschreitet („4 von 5“-Regel).
    2. 2.Ziffer 2Beim Parameter Temperatur ist die „4 von 5“-Regel auf die Stichproben eines Tages anzuwenden; der höchste Messwert darf das 1,2-Fache der Emissionsbegrenzung nicht überschreiten.
    3. 3.Ziffer 3Beim Parameter pH-Wert ist die „4 von 5“-Regel auf die Stichproben eines Tages anzuwenden; der Emissionsbereich darf um nicht mehr als maximal 0,3 pH-Einheiten über- oder unterschritten werden.
    4. 4.Ziffer 4Bei kontinuierlicher Messung der Parameter Temperatur oder pH-Wert ist die „4 von 5“-Regel durch die 80%-Unterschreitung über die Abwasserablaufzeit eines Tages zu ersetzen.
  3. (3)Absatz 3,Für die Fremdüberwachung gilt:
    1. 1.Ziffer einsWird bei bis zu viermal im Jahr durchgeführter Überwachung einer Einleitung ein Messwert eines Abwasserparameters Nr. 2, 3 oder 5 bis 28 der Anlage A ermittelt, der zwischen der Emissionsbegrenzung und deren 1,5-Fachem liegt, ist die Messung zu wiederholen. Ist bei der Wiederholungsmessung der Messwert nicht größer als die Emissionsbegrenzung, so gilt diese als eingehalten. Bei häufigerer Überwachung im Jahr gilt die „4 von 5“-Regel gemäß Abs. 2.Wird bei bis zu viermal im Jahr durchgeführter Überwachung einer Einleitung ein Messwert eines Abwasserparameters Nr. 2, 3 oder 5 bis 28 der Anlage A ermittelt, der zwischen der Emissionsbegrenzung und deren 1,5-Fachem liegt, ist die Messung zu wiederholen. Ist bei der Wiederholungsmessung der Messwert nicht größer als die Emissionsbegrenzung, so gilt diese als eingehalten. Bei häufigerer Überwachung im Jahr gilt die „4 von 5“-Regel gemäß Absatz 2,
    2. 2.Ziffer 2Für die Parameter Temperatur und pH-Wert gilt Abs. 2.Für die Parameter Temperatur und pH-Wert gilt Absatz 2,
  4. (4)Absatz 4,Probenahme und Analyse für einen Abwasserparameter der Anlage A sind bei der Eigenüberwachung und bei der Fremdüberwachung gemäß den Methodenvorschriften der Anlage A der Methodenverordnung Wasser (MVW), BGBl. II Nr. 129/2019 in der jeweils geltenden Fassung, durchzuführen.Probenahme und Analyse für einen Abwasserparameter der Anlage A sind bei der Eigenüberwachung und bei der Fremdüberwachung gemäß den Methodenvorschriften der Anlage A der Methodenverordnung Wasser (MVW), Bundesgesetzblatt Teil 2, Nr. 129 aus 2019, in der jeweils geltenden Fassung, durchzuführen.

§ 5 AEV Halbleiterbauelemente


  1. (1)Absatz eins,Eine bei Inkrafttreten dieser Verordnung rechtmäßig bestehende Abwassereinleitung gemäß § 1 Abs. 1 hat innerhalb von fünf Jahren den Emissionsbegrenzungen der Anlage A (für einen sonstigen Abwasserparameter gemäß § 4 Abs. 3 AAEV der entsprechenden Emissionsbegrenzung der Anlage A der AAEV) zu entsprechen.Eine bei Inkrafttreten dieser Verordnung rechtmäßig bestehende Abwassereinleitung gemäß Paragraph eins, Absatz eins, hat innerhalb von fünf Jahren den Emissionsbegrenzungen der Anlage A (für einen sonstigen Abwasserparameter gemäß Paragraph 4, Absatz 3, AAEV der entsprechenden Emissionsbegrenzung der Anlage A der AAEV) zu entsprechen.
  2. (2)Absatz 2,Diese Verordnung tritt ein Jahr nach ihrer Kundmachung in Kraft.
  3. (3)Absatz 3,§ 2, § 4 Abs. 4, Anlage A Pkt. 2.2 und Pkt. 25, Anlage A Fußnote g) und k) in der Fassung der Verordnung BGBl. II Nr. 128/2019 treten mit dem der Kundmachung folgenden Tag in Kraft. Gleichzeitig tritt Anlage B außer Kraft.Paragraph 2,, Paragraph 4, Absatz 4,, Anlage A Pkt. 2.2 und Pkt. 25, Anlage A Fußnote g) und k) in der Fassung der Verordnung Bundesgesetzblatt Teil 2, Nr. 128 aus 2019, treten mit dem der Kundmachung folgenden Tag in Kraft. Gleichzeitig tritt Anlage B außer Kraft.

Anlage

Anl. 1 AEV Halbleiterbauelemente


 

 

I)römisch eins)

II)römisch zwei)

 

 

Anforderungen an

Anforderungen an

 

 

Einleitungen in

Einleitungen in eine

 

 

ein Fließgewässer

öffentliche Kanalisation

A 1

Allgemeine Parameter

 

 

1.

Temperatur

30 °C

35 °C

2.

Toxizität

 

 

2.1

Bakterientoxizität

4

a)

 

GL

 

 

2.2

Fischeitoxizität GF,Ei

2

a)

 

b)

 

 

3.

Abfiltrierbare

50 mg/l

250 mg/l

 

Stoffe c)

 

 

4.

pH-Wert

6,5 – 8,5

6,5 – 9,5

A 2

Anorganische Parameter

 

 

5.

Antimon

0,3 mg/l

0,3 mg/l

 

ber. als Sb

 

 

6.

Arsen

0,1 mg/l

0,1 mg/l

 

ber. als As

d)

d)

7.

Blei

0,5 mg/l

0,5 mg/l

 

ber. als Pb

 

 

8.

Bor

1,0 mg/l

1,0 mg/l

 

ber. als B

 

 

9.

Cadmium

0,1 mg/l

0,1 mg/l

 

ber. als Cd

e)

e)

10.

Chrom – Gesamt

0,5 mg/l

0,5 mg/l

 

ber. als Cr

 

 

11.

Kupfer

0,5 mg/l

0,5 mg/l

 

ber. als Cu

 

 

12.

Molybdän

2,0 mg/l

2,0 mg/l

 

ber. als Mo

 

 

13.

Nickel

0,5 mg/l

0,5 mg/l

 

ber. als Ni

 

 

14.

Selen

0,5 mg/l

0,5 mg/l

 

ber. als Se

f)

f)

15.

Zink

2,0 mg/l

2,0 mg/l

 

ber. als Zn

 

 

16.

Zinn

2,0 mg/l

2,0 mg/l

 

ber. als Sn

 

 

17.

Ammonium

20 mg/l

g)

 

ber. als N

 

 

18.

Fluorid

30 mg/l

30 mg/l

 

ber. als F

h)

h)

19.

Gesamter geb.

j)

 

Stickstoff TNb

 

 

 

ber. als N
i)
ber. als N, i)

 

 

20.

Phosphor – Gesamt

1,0 mg/l

 

ber. als P

 

 

21.

Sulfat

k)

 

ber. als SO4

 

 

A 3

Organische Parameter

 

 

22.

Gesamter org. geb.

30 mg/l

 

Kohlenstoff TOC

 

 

 

ber. als C

l)

 

 

23.

Chemischer Sauer-

120 mg/l

 

stoffbedarf CSB

 

 

 

ber. als O2

l)

 

 

24.

Adsorbierbare. org.

0,5 mg/l

0,5 mg/l

 

geb.Halogene AOX

 

 

 

ber. als Cl

 

 

25.

Kohlenwasserstoff-Index

5,0 mg/l

10 mg/l

26.

Ausblasbare org.

0,1 mg/l

0,1 mg/l

 

geb. Halogene POX

 

 

 

ber. als Cl

 

 

27.

Summe der anionischen

5,0 mg/l

m)

 

und nichtionischen

 

 

 

Tenside

 

 

28.

Summe der flüchtigen

0,1 mg/l

0,1 mg/l

 

aromatischen Kohlen-

 

 

 

wasserstoffe Benzol,

 

 

 

Toluol, Xylole und

 

 

 

Ethylbenzol BTXE

 

 

  1. a)Litera a

Anl. 2 AEV Halbleiterbauelemente (weggefallen)


Anl. 2 AEV Halbleiterbauelemente seit 23.05.2019 weggefallen.

Sofortabfrage ohne Anmeldung!

Jetzt Abfrage starten